晶圓單片清洗設備應用提案
裝置概要
晶圓單片清洗設備由于工藝效果好、均勻性高,不易產生交叉污染,逐漸成為了半導體制造中的主流濕法清洗設備。該設備在晶圓上、下料、CUP升降裝置、噴淋/清洗裝置等機構應用上,東方馬達均提供強有力的解決方案。通過搭載步進伺服混合控制系統(tǒng)αSTEP AZ系列及其模組化產品,達成小型化、高精度、節(jié)省設計、裝配的人力和時間成本等多項課題。 以下為您介紹各工位應用提案:
噴淋/清洗裝置擺臂工位——旋轉軸
中空旋轉式傳動裝置DGⅡ系列可直接安裝大慣性工作臺及機械臂等,減少機構設計、零件調配、組裝狀態(tài)調節(jié)等花費的時間與費用。
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驅動多種機械臂規(guī)格·大容許慣性力矩
以下為各規(guī)格可驅動的大致機械臂參考長度及負載質量,實際選用請結合機構尺寸及驅動條件進行綜合選型計算,可進一步洽詢東方馬達。
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![]() ? DGM60采用了深槽滾珠軸承。 |
一體化?大口徑中空孔設計
可直接將負載安裝在旋轉平臺上,不僅省去傳動機構,方便安裝,更能通過中空設計實現(xiàn)由下而上的配線?配管。
大口徑中空孔(貫穿)可用于布線復雜的配線、氣動及液壓配管等場合,使裝置設計更為簡潔。
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大口徑中空孔 旋轉平臺驅動清洗臂擺動,負載直接安裝于旋轉平臺上,中空設計實現(xiàn)清洗液輸送配管由中空部輕松通過,整體設計緊湊,減少因機構設計產生空間干涉。 |
搭載AZ系列的便利功能
方便的運行·設定
使用AZ系列的功能,能夠通過中空旋轉式傳動裝置的旋轉平臺執(zhí)行坐標管理,可以實現(xiàn)以下運行:
?就近絕對定位運行,縮短生產周期 | ?設定禁止進入范圍,使控制簡單、更安全 | |
指朝向設定的目標位置,按移動距離最短的旋轉方向執(zhí)行驅動的功能。
可縮短裝置的生產周期。
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裝置上有障礙物等時,
可在旋轉平臺上設定禁止進入范圍。 ![]() |
縮短裝置啟動時間 出廠時已預設運行中空旋轉式傳動裝置所需參數(shù),可縮短裝置啟動時間。·原點位置
·分辨率設定(0.01°/step)
·旋轉平臺的旋轉方向設定
·Round設定±180°
●各初始設定值支持更改。
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搭載產品
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注意:
本資料僅供參考。選購前請仔細確認設備需求和產品規(guī)格。
如需幫助,請洽詢本公司客戶咨詢中心(電話:400-820-6516)。